Aurrealdi

50/50 habe koherentzia optikoko tomografia (urrian)

Substratua:B270 / H-K9L / N-BK7 / JGS1 edo beste

Tolerantzia dimentsioa:-0.1mm

Lodiera tolerantzia:± 0,05mm

Azaleko lautasuna:2(1)@632.8nm

Gainazalaren kalitatea:40/20

Ertzak:Lurra, 0,25mm gehienez. Zabalera osoa

Apertura garbia:% 90

Paralelismoa:<30 "

Estaldura:T: r =% 50:% 50 ± 5% 5 @ 420-680nm
Neurrira egindako ratioak (t: r) eskuragarri
AOI:45 °

ikerketa xehetasun
Chrome estalitako zehaztasun plaka

Materiala:B270i

Prozesua:Gainazal bikoitzak leunduak,

        Gainazaleko kromo estalitako estalitakoa, gainazal bikoitzak

Gainazalaren kalitatea:20-10 ereduko eremuan

                  40-20 kanpoko eremuan

                 Ez da zulorik Chrome estaldura

Paralelismoa:<30 "

Chamfer:<0,3 * 45 °

Chrome estaldura:T <0,5%@420-680nm

Lerroak gardena dira

Linearen lodiera:0,005mm

Linearen luzera:8mm ± 0,002

Line Gap: 0,1mm± 0,002

Azalera bikoitza ar:T>% 99 @ 600-650NM

Aplikazioa:LED eredu proiektoreak

ikerketa xehetasun
Kameraren lenteentzako nd iragazkia drone gainean

ND iragazkia Ar leiho eta polarizazio filmarekin lotuta. Produktu hau irudiak eta bideoak ateratzeko modua iraultzeko diseinatuta dago, kameraren lenteetan sartzen den argi kopuruaren gaineko kontrol paregabea eskainiz. Argazkilari profesionala, bideografoa edo, besterik gabe, zure argazkigintzaren jokoa altxatu nahi duen zaletasuna, gure iragazkia zure sormen ikuspegia hobetzeko tresna ezin hobea da.

ikerketa xehetasun
410nm bandpass iragazkia pestizidaren hondakinen azterketarako

Substratua:B270

Tolerantzia dimentsioa: -0.1mm

Lodiera tolerantzia: ±0,05mm

Azaleko lautasuna:1(0,5) @ 632.8nm

Gainazalaren kalitatea: 40/40 /20

Linearen zabalera:0,1mm & 0,05mm

Ertzak:Lurra, 0,3mm gehienez. Zabalera osoa

Apertura garbia: % 90

Paralelismoa:<5"

Estaldura:T<0,5 %@200-380nm,

TAlde% 80 @ 410±3nm,

Flwhm<6NM

T<0,5%@425-510nm

Mount:Bai

ikerketa xehetasun
1550nm bandpass iragazkia lidar sortaFinder

Substratua:Hwb850

Tolerantzia dimentsioa: -0.1mm

Lodiera tolerantzia: ± 0,05mm

Azaleko lautasuna:3(1)@632.8nm

Gainazalaren kalitatea: 60/40

Ertzak:Lurra, 0,3mm gehienez. Zabalera osoa

Apertura garbia: % 90

Paralelismoa:<30 "

Estaldura: Bandpass estaldura @ 1550NM
CWL: 1550 ± 5NM
Fwhm: 15nm
T>% 90 @ 1550NM
Uhin luzera blokeatu: t <0,01%@200-1850NM
AOI: 0 °

ikerketa xehetasun
Fitxa-esparruetarako argiztatutako erretikulua

Substratua:B270 / N-BK7 / H-K9L / H-K51
Tolerantzia dimentsioa:-0.1mm
Lodiera tolerantzia:± 0,05mm
Azaleko lautasuna:2(1)@632.8nm
Gainazalaren kalitatea:20/10
Linearen zabalera:0,003 mm gutxienez
Ertzak:Lurra, 0,3mm gehienez. Zabalera osoa
Apertura garbia:% 90
Paralelismoa:<5 "
Estaldura:Dentsitate optiko handiko kromo opakua, fitxak <0,01 bi uhin-luzera
Zona gardena, ar: R <0,35 wavelgu luzera
Prozesua:Beira grabatua eta bete sodio silikatoarekin eta titanio dioxidoarekin

ikerketa xehetasun
Fusion Silizea Laser Babes leihoa

Fusion Silizea Babes leihoek bereziki diseinatutako optika dira silizea edalontzi optikoz egindakoak, eta transmisio propietate bikainak eskaintzen dituzte uhin-luzera ikusgai eta infragorriko barrutietan. Oso erresistentea da shock termikoarekiko eta laser bidezko potentzia-dentsitate handiak jasateko gai direnak, leiho hauek babes kritikoa eskaintzen dute laser sistemetarako. Haien diseinu malkartsuak estres termiko eta mekaniko biziak jasan ditzakeela ziurtatzen dute babesten dituzten osagaien osotasuna arriskuan jarri gabe.

ikerketa xehetasun
Zehaztasun plano-konkisioa eta lente konkretu bikoitzak

Substratua:CDGM / SCHOTT
Tolerantzia dimentsioa:-0.05mm
Lodiera tolerantzia:± 0,05mm
Erradioaren tolerantzia:± 0,02mm
Azaleko lautasuna:1(0.5)@632.8nm
Gainazalaren kalitatea:40/20
Ertzak:Babes-bevel behar bezala
Apertura garbia:% 90
Zentroa:<3 '
Estaldura:Rabs <0,5%@design uhin luzera

ikerketa xehetasun
Etapa Micrometroak Kalibrazio Eskalak Sareak

Substratua:B270
Tolerantzia dimentsioa:-0.1mm
Lodiera tolerantzia:± 0,05mm
Azaleko lautasuna:3(1)@632.8nm
Gainazalaren kalitatea:40/20
Linearen zabalera:0,1mm & 0,05mm
Ertzak:Lurra, 0,3mm gehienez. Zabalera osoa
Apertura garbia:% 90
Paralelismoa:<5 "
Estaldura:Dentsitate optiko handiko kromo opakua, fitxak <0,01 bi uhin-luzera
Zona gardena, ar: R <0,35 wavelgu luzera

ikerketa xehetasun
Laser mailako plano-konbexuak lenteak

Substratua:UV silizea fusionatu
Tolerantzia dimentsioa:-0.1mm
Lodiera tolerantzia:± 0,05mm
Azaleko lautasuna:1(0.5)@632.8nm
Gainazalaren kalitatea:40/20
Ertzak:Lurra, 0,3mm gehienez. Zabalera osoa
Apertura garbia:% 90
Zentroa:<1 '
Estaldura:Rabs <0,25%@design uhin luzera
Kaltearen atalasea:532nm: 10J / cm², 10ns pultsua
1064nm: 10J / cm², 10ns pultsua

ikerketa xehetasun
Zehaztasun erretulak - Chrome beira

Substratua:B270 / N-BK7 / H-K9L
Tolerantzia dimentsioa:-0.1mm
Lodiera tolerantzia:± 0,05mm
Azaleko lautasuna:3(1)@632.8nm
Gainazalaren kalitatea:20/10
Linearen zabalera:0,003 mm gutxienez
Ertzak:Lurra, 0,3mm gehienez. Zabalera osoa
Apertura garbia:% 90
Paralelismoa:<30 "
Estaldura:Geruza bakarreko mgf₂, Ravg <1,5%@design uhin luzera

Line / dot / figure: cr edo cr₂O₃

ikerketa xehetasun
Lanpara estaldurako aluminiozko estaldura

Sistema: B270®
Tolerantzia dimentsioa:± 0,1mm
Lodiera tolerantzia:± 0,1mm
Azaleko lautasuna:3(1)@632.8nm
Gainazalaren kalitatea:60/40 edo hobea
Ertzak:Lurra eta beltza, 0,3mm gehienez. Zabalera osoa
Atzeko azalera:Lurra eta beltza
Apertura garbia:% 90
Paralelismoa:<5 "
Estaldura:Babes aluminiozko estaldura, r>% 90 @ 430-670nm, AOI = 45 °

ikerketa xehetasun